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      鍍層測厚儀

      更新時間:2024-08-16

      簡要描述:

      XAU是一款一機(jī)多用型光譜儀,應(yīng)用了*的EFP算法和微光聚集技術(shù),既保留了測厚儀檢測微小樣品和凹槽的膜厚性能,又可滿足成分分析。被廣泛用于各類產(chǎn)品的質(zhì)量管控、來料檢驗(yàn)和對生產(chǎn)工藝控制的測量使用。
      搭載微聚焦X射線發(fā)生器和*的光路轉(zhuǎn)換聚焦系統(tǒng),測量面積達(dá)0.03mm²
      擁有無損變焦檢測技術(shù),手動變焦功能,可對各種異形凹槽件進(jìn)行無損檢測,凹槽深度范圍0-30mm

      訪問次數(shù):4099廠商性質(zhì):經(jīng)銷商

      X熒光光譜分析儀;XAU:(鍍層測厚-成分分析)

      產(chǎn)品類型:能量色散X熒光光譜分析儀

      產(chǎn)品名稱:光譜分析儀

      產(chǎn)品型號:XAU

       

      產(chǎn)品優(yōu)勢:

      XAU是一款一機(jī)多用型光譜儀,應(yīng)用了EFP算法和微光聚集技術(shù),既保留了測厚儀檢測微小樣品和凹槽的膜厚性能,又可滿足成分分析。

      用于各類產(chǎn)品的質(zhì)量管控、來料檢驗(yàn)和對生產(chǎn)工藝控制的測量使用。

       

      1)搭載微聚焦X射線發(fā)生器和光路轉(zhuǎn)換聚焦系統(tǒng),測量面積達(dá)0.03mm²

      2)擁有無損變焦檢測技術(shù),手動變焦功能,可對各種異形凹槽件進(jìn)行無損檢測,凹槽深度范圍0-30mm

      3)核心EFP算法,可對多層多元素,包括同種元素在不同層都可快、準(zhǔn)、穩(wěn)的做出數(shù)據(jù)分析(釹鐵硼磁鐵上Ni/Cu/Ni/FeNdB,準(zhǔn)確檢測第一層Ni和第三層Ni的厚度)

      4)配備高精密微型移動滑軌,可實(shí)現(xiàn)多點(diǎn)位、多樣品的準(zhǔn)確位移和同時檢測

      5)裝配Si-Pin半導(dǎo)體探測器,分辨率高,測試速度快,數(shù)據(jù)穩(wěn)定

      6)涂鍍層分析范圍:鋰Li3- U92

      7)成分分析范圍:鋁Al13- U92

      8)人性化封閉軟件,自動判斷故障提示校正及操作步驟,避免誤操作

      9)四準(zhǔn)直器可選,標(biāo)配為φ0.3mm,測量面積可達(dá)0.03mm²

      10)配有微光聚集技術(shù),近測距光斑擴(kuò)散度小于10%

      行業(yè)應(yīng)用:各類精密電子鍍薄金

      隨著科技的發(fā)展,越來越多的行業(yè)開始采用鍍金表面處理,用于提升產(chǎn)品的綜合質(zhì)量。

          電鍍金鍍層耐蝕性強(qiáng),導(dǎo)電性好,易于焊接,耐高溫,并具有一定的耐磨性(如摻有少量其他元素的硬金),有良好的抗變色能力,同時金合金鍍層有多種色調(diào),在銀上鍍金可防止變色。

      并且鍍層的延展性好,易拋光,故常用作裝飾性鍍層,如鍍首飾、鐘表零件、藝術(shù)品等;也廣泛應(yīng)用于精密儀器儀表、印刷板、集成電路、電子管殼、電接點(diǎn)等要求電參數(shù)性能長時間穩(wěn)定的零件電鍍,但由于金的價格昂貴,應(yīng)用受到一定限制。故此鍍金產(chǎn)品對于鍍層的管控較為的嚴(yán)格,然而由于鍍層極薄,能量弱,穩(wěn)定性差,想要良好的管控成本及產(chǎn)品質(zhì)量,就需要一臺性能*的光譜儀進(jìn)行檢測分析。

      XAU可滿足精密電子類客戶對于薄金納米級厚度的管控,實(shí)現(xiàn)檢測同一個點(diǎn)的薄金厚度,極差穩(wěn)定在3-4個納米。

      技術(shù)參數(shù):

      項(xiàng)目

      描述

      涂鍍層分析

      可同時分析23個鍍層,24種元素,不同層有相同元素也可分析,可檢測Li3- U92)涂鍍層90種元素

      成分分析

      用于地礦、合金及貴金屬等物質(zhì)中Al13-U92)的80種元素成分分析

      EFP算法

      標(biāo)配

      軟件操作

      人性化封閉軟件,自動判斷故障提示校正及操作步驟,避免誤操作

      分析時間

      5-300

      探測器

      Si-Pin半導(dǎo)體探測器

      X射線裝置

      微聚焦射線管

      準(zhǔn)直器

      Φ0.5mm

      Φ0.3mm

      Φ0.2mm

      0.1*0.3mm

      四準(zhǔn)直器可選,Φ0.3mm為標(biāo)配(也可另外定制)

      微光聚焦技術(shù)

      近測距光斑擴(kuò)散度 10%

      濾光片

      一種濾光片

      測量距離

      具有距離補(bǔ)償功能,可改變測量距離測量凹凸異形樣品,變焦距離可達(dá)0-30mm

      樣品觀測

      1/2.7”彩色CCD,變焦功能

      對焦方式

      高敏感鏡頭,手動對焦

      放大倍數(shù)

      光學(xué)38-46X,數(shù)字放大40-200

      儀器尺寸

      470mm*550mm*480mm

      樣品腔高度

      210mm

      樣品臺移動

      高精密XY手動滑軌

      可移動范圍

      50mm*50mm

      儀器重量

      45KG

      其他附件

      電腦一套、打印機(jī)、附件箱、十二元素片、電鍍液測量杯(選配)、標(biāo)準(zhǔn)片(選配)

      X射線標(biāo)準(zhǔn)

      DIN ISO 3497DIN 50987ASTM B 568

       

       

       

       

       

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